詳細(xì)摘要: 一、主要供半導(dǎo)體器件、集成電路生產(chǎn)過程中作等離子去膠工藝用,同時(shí)也可兼作刻蝕工藝使用
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備
中普尼實(shí)業(yè)集團(tuán)(海南)有限公司
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詳細(xì)摘要: 一、主要供半導(dǎo)體器件、集成電路生產(chǎn)過程中作等離子去膠工藝用,同時(shí)也可兼作刻蝕工藝使用
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品用途與特點(diǎn):1、本產(chǎn)品利用低能量平行Ar﹢離子束對基片表面進(jìn)行轟擊,將基片表面未覆蓋掩膜的部分濺射出,從而達(dá)到選擇刻蝕的目的
產(chǎn)品型號:所在地:海口市更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品用途與特點(diǎn):1、本產(chǎn)品通過物理與化學(xué)相結(jié)合的方法,對亞微米一下線條進(jìn)行干法刻蝕,以形成精細(xì)圖形
產(chǎn)品型號:所在地:海口市更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備CPN-H67-12A型:該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體集成電路制造中氮化硅、多晶硅、二氧化硅的干法刻蝕;而且還能刻蝕鉻、氧化鉻、鋁等
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 本設(shè)備是為淀積設(shè)備配套而設(shè)計(jì)的,主要用于半導(dǎo)體集成電路制造過程中對氮化硅、多晶硅的干法腐蝕;而且還能刻蝕二氧化硅、鉻、氧化鉻等各種介質(zhì)膜和金屬膜
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 表面鈍化技術(shù)是提高器件的可靠性穩(wěn)定性的一項(xiàng)有效的措施
產(chǎn)品型號:所在地:海口市更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 產(chǎn)品用途與特點(diǎn)1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面沉積SIOx、SINx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SIC、類金剛石等多種薄膜,并可沉積摻雜薄膜
產(chǎn)品型號:所在地:海口市更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: Model:Mini-40簡述:1,外形小巧、操作方便.2,加熱板面均一性好.3,升溫快速、溫度高達(dá)400℃.4,微處理器芯片精確控溫.總附:具有體積小、重量輕...
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: 101A系列電熱鼓風(fēng)干燥箱一、概述:101A系列電熱鼓風(fēng)干燥箱表面均采用優(yōu)質(zhì)鋼及表面烘漆,工作室的箱底設(shè)有進(jìn)風(fēng)口,冷空氣從箱底流進(jìn),由箱頂排氣孔排出
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: CPN-ITHMSA型智能定時(shí)磁力(加熱板)攪拌器:CPN-ITMSA型智能定時(shí)(加熱板)攪拌器,采用方形TU2紫銅板真空鍍膜/黑晶陶瓷面板加熱面加熱,美觀防腐
產(chǎn)品型號:所在地:海口市更新時(shí)間:2023-06-29 在線留言詳細(xì)摘要: CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機(jī)亦是CPN-PS系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)品種之一,是半導(dǎo)體器件制造過程中的專用工藝設(shè)備,采用*的單片微型機(jī)程序自動(dòng)控制,實(shí)現(xiàn)噴霧顯...
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