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行業(yè)產(chǎn)品

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中普尼實(shí)業(yè)集團(tuán)（海南）有限公司


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智能反應(yīng)離子刻蝕設(shè)備RIE-1D/RIE-1E型

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品       牌

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更新時(shí)間：2023-06-29 12:41:21瀏覽次數(shù)：237次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)品用途與特點(diǎn)：1、本產(chǎn)品通過(guò)物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，對(duì)亞微米一下線條進(jìn)行干法刻蝕，以形成精細(xì)圖形

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品用途與特點(diǎn)：

1、本產(chǎn)品通過(guò)物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，對(duì)亞微米一下線條進(jìn)行干法刻蝕，以形成精細(xì)圖形。設(shè)備具有選擇比高、刻蝕速率快、重復(fù)性好、性?xún)r(jià)比高等優(yōu)點(diǎn)?？煽涛g的材料主要有 SIOx、SINx、多晶硅、硅、SIC、GaN、GaAs、聚酰亞胺、光刻膠、半導(dǎo)體材料、部分金屬等。

2、主要應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新材料、新能源等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

3、產(chǎn)品適合于科研院所、大專(zhuān)院校、中小型生產(chǎn)企業(yè)的科研及教學(xué)。


產(chǎn)品主要技術(shù)指標(biāo)

1、真空系統(tǒng)：分子泵機(jī)組

2、刻蝕室數(shù)量：?jiǎn)问?/p>

3、樣品有效刻蝕尺寸：Ф1 英寸～Ф8 英寸

4、刻蝕速率：0.1um～2um/min（視材料與工藝）

5、刻蝕不均勻性：±5% 

6、工藝氣體：配備 3 路耐氟基腐蝕氣路，或用戶(hù)選配：氯基氣體刻蝕：可選配

7、關(guān)鍵部件：可選配進(jìn)口、國(guó)產(chǎn)

8、操作方式：可選擇手動(dòng)、全自動(dòng)控制模式


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