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中普尼實(shí)業(yè)集團(tuán)（海南）有限公司
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中普尼實(shí)業(yè)集團(tuán)（海南）有限公司
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更新時間：2023-06-29 12:34:28瀏覽次數(shù)：156次
聯(lián)系我時，請告知來自 包裝印刷網(wǎng)1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料
1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面鍍制各種金屬、非金屬、化合物薄膜材料。如 Al、Au、Pt、Cr、Ti、Ni、Cu、NiCr、TiW、W、SiO、AlO、TaN、ITO、AZO 等，沉積的薄膜具有良好的均勻性、附著力，薄膜濺射速率快、基片溫升低、加熱穩(wěn)定等特點(diǎn)。
2、磁控靶垂直安裝，自上而下垂直濺射成膜，可以鍍制單層、多層薄膜，一次可批量完成多個樣片的濺射鍍膜。
4、主要應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械、新材料、新能源等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。
5、產(chǎn)品適合于科研院所、大專院校、中小型生產(chǎn)企業(yè)的科研及教學(xué)。
產(chǎn)品主要技術(shù)指標(biāo)：
1、真空系統(tǒng)：分子泵機(jī)組
2、沉積室數(shù)量：單室，樣片手動送取
3、濺射靶規(guī)格：Ф100mm、Ф150mm、Ф200mm
4、濺射靶數(shù)量：2-4 個
5、膜層結(jié)構(gòu)：單層膜、多層膜
6、電源標(biāo)準(zhǔn)配置：直流、射頻
7、電源選配：直流脈沖、中頻；直流偏壓、射頻偏壓
8、樣品數(shù)量及尺寸：6-16 片，2-6 英寸
9、樣品臺旋轉(zhuǎn)：公轉(zhuǎn) 1-25rpm、轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)
10、工作臺溫度：室溫~250℃，控溫精度±1%
11、濺射速率：視材料與工藝，可向廠家咨詢
12、濺射不均勻性：±3%~±5%
13、人機(jī)界面：Windows 風(fēng)格界面、觸屏操作
14、關(guān)鍵部件：可選配進(jìn)口、國產(chǎn)
15、操作方式：可選半手動、全自動控制模式
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