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中普尼實業(yè)集團(tuán)（海南）有限公司
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更新時間：2023-04-15 09:30:09瀏覽次數(shù)：742次
聯(lián)系我時，請告知來自 包裝印刷網(wǎng)CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機(jī)亦是CPN-PS系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)品種之一，是半導(dǎo)體器件制造過程中的專用工藝設(shè)備，采用*的單片微型機(jī)程序自動控制，實現(xiàn)噴霧顯影工藝，電路清晰完整，由于控制系統(tǒng)穩(wěn)定，在進(jìn)行工藝中不飛片，顯影速度快（30S）和節(jié)省顯影液，主要用于科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其他半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用
CPN-PSD-100/OP型凈化顯影機(jī)亦是CPN-PS系列產(chǎn)品的基礎(chǔ)品種之一，是半導(dǎo)體器件制造過程中的專用工藝設(shè)備，采用*的單片微型機(jī)程序自動控制，實現(xiàn)噴霧顯影工藝，電路清晰完整，由于控制系統(tǒng)穩(wěn)定，在進(jìn)行工藝中不飛片，顯影速度快（30S）和節(jié)省顯影液，主要用于科研和生產(chǎn)單位大規(guī)模集成電路和其他半導(dǎo)體器件的光刻工藝中作顯影之用。
一、本機(jī)顯影工藝采用了*的噴霧方式，可根據(jù)工藝要求噴霧狀態(tài)電機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù)，程序時間的工藝參數(shù)都可在很寬的數(shù)值范圍內(nèi)調(diào)整。其程序為延時吸片-顯影-漂洗-干燥-延時復(fù)位。
二、采用噴霧顯影工藝后電路圖形清晰完整，特別是對較細(xì)線條電路采用此工藝可得到很高的效果。
三、本設(shè)備除能顯影工藝外,亦可進(jìn)行涂膠工藝.
主要技術(shù)指標(biāo)：
1、顯影工位：1個工位
2、程序時間：顯影 1-99秒或999秒
3、漂洗 1-99秒或999秒
4、干燥 1-99秒或999秒
5、旋轉(zhuǎn)器轉(zhuǎn)數(shù)：500-8000轉(zhuǎn)/分（連續(xù)可調(diào)）
6、硅片直徑：Φ1—Φ100mm
7、凈化效果：100級（美國聯(lián)邦標(biāo)準(zhǔn)）
8、操作區(qū)風(fēng)速：0.3-0.5米/秒
9、氣流狀態(tài)：垂直層流
10、外形尺寸：1620mm（高）*650（寬）*800
11、整機(jī)包裝重量：150KG
12、氮氣源：N2管道或鋼瓶（進(jìn)氣壓力0.2-0.3MP/cm2）
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