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等離子刻蝕設(shè)備CPN-DK-P290型/CPN-P290A型

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

本設(shè)備是為淀積設(shè)備配套而設(shè)計(jì)的，主要用于半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中對(duì)氮化硅、多晶硅的干法腐蝕；而且還能刻蝕二氧化硅、鉻、氧化鉻等各種介質(zhì)膜和金屬膜

詳細(xì)介紹

本設(shè)備是為淀積設(shè)備配套而設(shè)計(jì)的，主要用于半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中對(duì)氮化硅、多晶硅的干法腐蝕；而且還能刻蝕二氧化硅、鉻、氧化鉻等各種介質(zhì)膜和金屬膜。反應(yīng)室采用平行電極腐蝕精度高。是一臺(tái)操作簡(jiǎn)單、用途廣泛、價(jià)格性能比高的設(shè)備。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、 主機(jī)電源：380V/50Hz 2.5Kw  

 2、反應(yīng)室尺寸： 344×105mm

 3、電極 直徑  ：Ф290mm  

4、兩極板間距  ：10～30mm可調(diào)        

5、反應(yīng)室極限真空度  ：優(yōu)于 4Pa

6、裝片量  ：    Ф 35mm  44片 、 Ф 50mm  20片 、 Ф75mm  8片 、 Ф100mm  5片

7、高  頻  源  ：功率0～1000W可調(diào)，P290型為自激式電源頻率范圍10Mc～13Mc，P290A型為它激式電源，頻率為13.56Mc，                             帶有功率匹配和功率計(jì)

8、工作周期：小于20分鐘，每小時(shí)可完成3次刻蝕            

9、真空泵： 2X-4型

10、外型尺寸：1120×550×1260（mm）              

11、 凈重：150Kg


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