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中普尼實業(yè)集團（海南）有限公司
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更新時間：2023-06-29 12:33:05瀏覽次數(shù)：189次
聯(lián)系我時，請告知來自 包裝印刷網(wǎng)產(chǎn)品用途與特點1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、金屬等材料表面沉積SIOx、SINx、非晶硅、微晶硅、納米硅、SIC、類金剛石等多種薄膜，并可沉積摻雜薄膜
產(chǎn)品用途與特點
1、本設(shè)備可在硅片、陶瓷、玻璃、石英、
金屬等材料表面沉積 SIOx、SINx、非晶
硅、微晶硅、納米硅、SIC、類金剛石
等多種薄膜，并可沉積摻雜薄膜。沉積
的薄膜具有良好的均勻性、致密性、粘
附性、絕緣性。
2、設(shè)備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、電源
系統(tǒng)、工藝進氣、溫度及整個工藝過程
的控制，使功工藝重復(fù)性、穩(wěn)定性、可
靠性得到有效保證，為用戶提供優(yōu)良的
研發(fā)和生產(chǎn)平臺。
3、要應(yīng)用于微電子、光電子、通訊、微
機械、新材料、新能源等領(lǐng)域的器件研
發(fā)和制造。
4、產(chǎn)品適合于科研院所、大專院校、中小型生產(chǎn)企業(yè)的科研及教學(xué)。
產(chǎn)品主要技術(shù)指標
1、真空系統(tǒng)：分子泵機組
2、沉積室數(shù)量：單室（601、801）雙室（802）
3、樣品尺寸：4-6 英寸/601、8 英寸/801、802
4、工作臺溫度：基本配置 300℃，或用戶定制
5、沉積速率：20nm~600nm/min（視材料與工藝）
6、沉積不均勻性：±5%
7、工藝氣體：標配 4 路氣路，或用戶選配
8、電度調(diào)節(jié)：PECVD-601 支持
9、功率源系統(tǒng)：中頻、高頻可選配
10、人機界面：Windows 風(fēng)格界面、觸屏操作
11、關(guān)建部件：可選配進口、國產(chǎn)
12、操作方式：可選半手動、全自動控制模式
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