詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是“感應(yīng)耦合離子體刻蝕機(jī)(ICP)"的全自動(dòng)產(chǎn)品
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2023-07-03 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是“感應(yīng)耦合離子體刻蝕機(jī)(ICP)"的全自動(dòng)產(chǎn)品
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2023-07-03 在線留言
詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是“標(biāo)準(zhǔn)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE）"的全自動(dòng)產(chǎn)品
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是利用低能量平行Ar+離子束對(duì)基片表面進(jìn)行轟擊，表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出，從而達(dá)到選擇刻蝕的目的，它采用純物理的刻蝕原理
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是在“全自動(dòng)ICP"的基礎(chǔ)上增加了進(jìn)樣室、真空鎖和機(jī)械手自動(dòng)取送樣片裝置而成的設(shè)備
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品通過物理與化學(xué)相結(jié)合的方法，對(duì)很細(xì)的線條（亞微米以下）進(jìn)行刻蝕以形成精細(xì)的圖形
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是“標(biāo)準(zhǔn)型磁控制濺射臺(tái)"的全自動(dòng)產(chǎn)品
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本設(shè)備通過對(duì)真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動(dòng)控制，使工藝重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證
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詳細(xì)摘要： 本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本設(shè)備通過對(duì)工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復(fù)性，并廣泛應(yīng)用于相關(guān)領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造
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詳細(xì)摘要： 本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本產(chǎn)品具有三種功能：等離子體刻蝕(PE)、反應(yīng)離子刻蝕(RIE)、感應(yīng)耦合等離子體刻蝕(ICP)
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本產(chǎn)品采用口徑φ150mm考夫曼型離子源，通過結(jié)構(gòu)的雙鉬柵離子光學(xué)系統(tǒng)及SHAG技術(shù)保證在φ100mm范圍內(nèi)束流的均勻性為±5%，電子中和...
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本設(shè)備具有選擇比好，刻蝕速度快、重復(fù)性好等特點(diǎn)，它較RIE具有更好的綜合刻蝕效果且應(yīng)用范圍更廣
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品是“標(biāo)準(zhǔn)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE）"的全自動(dòng)雙室產(chǎn)品
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詳細(xì)摘要： 本設(shè)備帶有進(jìn)/取樣室、真空鎖和機(jī)械手自動(dòng)送/取樣片裝置
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詳細(xì)摘要： 本設(shè)備是“標(biāo)準(zhǔn)型等離子體化學(xué)氣相淀積臺(tái)(PECVD)"的全自動(dòng)產(chǎn)品
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本設(shè)備通過對(duì)工藝的有效控制，可獲得較好的均勻性、粘附性以及較好的重復(fù)性，并廣泛應(yīng)用于相關(guān)領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造
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詳細(xì)摘要： 本產(chǎn)品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬，單層、多層膜
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詳細(xì)摘要： 詳細(xì)描述本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：北京市更新時(shí)間：2023-07-03 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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