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更新時(shí)間：2023-07-14 08:37:35瀏覽次數(shù)：719次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 包裝印刷網(wǎng)KLOE微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī)UV-KUB系列圖片簡(jiǎn)介法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn)
KLOE 微流控芯片光刻機(jī)/曝光機(jī) UV-KUB系列
圖片
簡(jiǎn)介
法國(guó)KLOE公司在光刻方面有著豐富的經(jīng)驗(yàn)，其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機(jī)是一種基于UV LED的曝光機(jī)系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)緊湊，可以直接放置在實(shí)驗(yàn)臺(tái)上，能夠處理可達(dá)直徑4英寸的晶圓，兼容硬接觸（接觸式）或者軟接觸（接近式）工藝，可自動(dòng)調(diào)整掩膜高度以適應(yīng)不同的基板厚度，可使用365 nm或405 nm的光源，不需要預(yù)熱，也不需要單獨(dú)的冷卻單元。另外，UV-KUB系列*的設(shè)計(jì)，保證了光源的準(zhǔn)直性和均勻性，其zui小分辨率可達(dá)2μm，發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠，如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
規(guī)格參數(shù)
| 項(xiàng)目 | UV-KUB 2 | UV-KUB 3 |
| 最小分辨率 | 2 μm | 2 μm |
| 光源波長(zhǎng) | 365 nm / 385 nm / 405 nm | 365 nm |
| 能量密度 | 25 mW / cm2 ± 10 % | 30 mW / cm2 ± 10 % |
| 熱效應(yīng)升溫 | < 1°C | < 1°C |
| 曝光時(shí)間 | 1s~18 hours | 1s~18 hours |
| 存儲(chǔ)程序數(shù)量 | 10個(gè) | 無(wú)限制 |
| 對(duì)準(zhǔn)分辨率 | / | < 3 μm |
| 外形尺寸 | 260 x 260 x 260 mm3 | 480 x 480 x 480 mm3 |
| 重量 | 8.2 kg | 55 kg |
| 顯示屏 | 彩色觸摸屏5.7 inches | 彩色觸摸屏15.6 inches |
功能圖解
UV-KUB 2型光刻機(jī)，是國(guó)際市場(chǎng)上一款采用UV-LED光源系統(tǒng)的光刻機(jī)，其配備了基于LED光源的光學(xué)頭，使用壽命大大提高，結(jié)構(gòu)小巧，性?xún)r(jià)比高，非常適合實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。
UV-KUB 3是一款帶對(duì)位功能的UV-LED曝光機(jī)，光源為365nm，其觸摸屏和CCD相機(jī)代替了傳統(tǒng)的顯微鏡及雙筒目鏡，控制器提供了圖像捕獲、測(cè)量以及對(duì)齊坐標(biāo)的記錄等功能，可以實(shí)現(xiàn)預(yù)對(duì)準(zhǔn)，這樣，用戶(hù)再通過(guò)操作手柄便能方便的進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)操作。
UV-KUB 2
UV-KUB 3
應(yīng)用系統(tǒng)
微流控芯片
MEMS器件
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