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行業(yè)產(chǎn)品

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全自動型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD-802)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地北京市

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更新時間:2023-07-03 09:16:34瀏覽次數(shù):156次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:27條

所在地區(qū):

聯(lián)系人:林平

產(chǎn)品簡介

本設(shè)備是“標準型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD)"的全自動產(chǎn)品

詳細介紹

本設(shè)備是“標準型等離子體化學氣相淀積臺(PECVD)"的全自動產(chǎn)品??捎脕淼矸eSiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、類金剛石等多種薄膜材料,這些薄膜材料在微電子、微機械、光電子、通訊等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用;在能源材料、機械材料、各種無機材料及高分子材料的薄膜制備和表面改性中,也顯示出的功能和巨大的潛力。 

詳細描述

本設(shè)備通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制,使工藝重復性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。

本設(shè)備的數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺。 

本設(shè)備通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點保護等設(shè)計,結(jié)合各種硬保護裝置、使設(shè)備的安全性、可靠性得到有效保證。 

本設(shè)備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造,以及能源材料、機械材料,各種無機材料及高分子材料的薄膜制備和表面改性。


產(chǎn)品主要性能指標


型號

PECVD-802

淀積室數(shù)量

雙室

淀積室規(guī)格

?400×150mm

樣片臺尺寸

?290mm(熱均勻區(qū)?220mm)

加熱溫度

≤ 300℃

淀積材料

SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅、類金剛石等

淀積速率

200 - 300 ?/min (與淀積材料和工藝有關(guān))

淀積不均勻性

≤ ±5%

自動化程度

真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動化控制。

人機界面

Windows環(huán)境、觸摸屏操作

操作方式

全自動方式、非全自動方式

自動化裝置的選配

可選擇進口件或國產(chǎn)件


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