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行業(yè)產(chǎn)品

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IBE-200Z離子束刻蝕機(jī)

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林平

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

本產(chǎn)品是利用低能量平行Ar+離子束對(duì)基片表面進(jìn)行轟擊，表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出，從而達(dá)到選擇刻蝕的目的，它采用純物理的刻蝕原理

詳細(xì)介紹

本產(chǎn)品是利用低能量平行Ar+離子束對(duì)基片表面進(jìn)行轟擊，表面上未被掩膜覆蓋部分的材料被濺射出，從而達(dá)到選擇刻蝕的目的，它采用純物理的刻蝕原理。離子束刻蝕是目前所有刻蝕方法中分辨率，陡真性方法，它可以對(duì)所有材料進(jìn)行刻蝕，例如：金屬、合金、氧化物、化合物、混合材料、半導(dǎo)體、絕緣體、超導(dǎo)體等。

詳細(xì)描述

本產(chǎn)品采用口徑φ200mm考夫曼型離子源，通過(guò)結(jié)構(gòu)的雙鉬柵離子光學(xué)系統(tǒng)及SHAG技術(shù)保證在φ150mm范圍內(nèi)束流的均勻性為±5%，電子中和系統(tǒng)可使樣片上的電荷積累為零。

本設(shè)備的刻蝕工作臺(tái)可繞工作中心自轉(zhuǎn)，離子束入射角可在0～90°之間任意調(diào)整。

本設(shè)備具有刻蝕速率穩(wěn)定、均勻性好、重復(fù)性好等特點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、通訊等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

自動(dòng)控制系統(tǒng)采用工控計(jì)算機(jī)及PLC控制、觸摸顯示屏操作，實(shí)現(xiàn)真空系統(tǒng)及工藝過(guò)程自動(dòng)化。本機(jī)可選擇全自動(dòng)及非全自動(dòng)模式。


產(chǎn)品主要性能指標(biāo)

型號(hào)

IBE-200Z

真空系統(tǒng)

分子泵機(jī)組

刻蝕室數(shù)量

單刻蝕室

刻蝕室規(guī)格

435×406×490mm

工作臺(tái)尺寸

?200mm（片徑≤6英寸）

離子束入射角

0～90°之間任意調(diào)整

刻蝕速率

100?～2000?/min（與刻蝕材料和工藝有關(guān)）

刻蝕不均勻性

≤±5%

Ar+離子能量范圍

100～1000eV，連續(xù)可調(diào)

離子束流密度

0～1mA/cm2，連續(xù)可調(diào)

有效離子束直徑

≥?100mm（屏柵極直徑?150mm）

電子中和

帶有熱絲結(jié)構(gòu)的電子中和裝置


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