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行業(yè)產(chǎn)品

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北京金盛微納科技有限公司


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(帶Load_Lock裝置)全自動(dòng)型感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)ICP-8000

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產(chǎn)品型號(hào)

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地北京市

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更新時(shí)間：2023-07-03 09:29:18瀏覽次數(shù)：175次

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經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：27條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林平

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作

詳細(xì)介紹

    本設(shè)備采用PLC控制，觸摸顯示屏操作。其數(shù)字化參數(shù)界面和自動(dòng)化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺(tái)。

設(shè)備通過(guò)對(duì)真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量及工藝過(guò)程的自動(dòng)控制，以及所具有的安全互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點(diǎn)保護(hù)等功能。從而獲得較高的刻蝕速率，并能精確地控制圖形的剖面。使設(shè)備的安全性、重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。 

本設(shè)備主要用于微電子、光電子、通訊、微機(jī)械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

 

產(chǎn)品主要性能指標(biāo)

型號(hào)

ICP-2B

ICP-500

ICP-5100

真空系統(tǒng)

分子泵機(jī)組

進(jìn)樣室：機(jī)械泵系統(tǒng)；刻蝕室：分子泵機(jī)組

刻蝕室數(shù)量

單室

刻蝕室規(guī)格

?300×280mm

電極尺寸

?200mm

刻蝕材料

Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等

刻蝕速率

0.1 – 1 μ/min （與刻蝕材料和工藝有關(guān)）

刻蝕不均勻性

≤±5%

深硅刻蝕控制單元

可選

 

自動(dòng)化程度

 

真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過(guò)程全自動(dòng)控制。

真空系統(tǒng)、機(jī)械手送/取樣片、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過(guò)程全自動(dòng)控制。

人機(jī)界面

 

Windows環(huán)境、觸摸屏操作

操作方式

手動(dòng)

全自動(dòng)方式、非全自動(dòng)方式

配套件選配

 

可選擇進(jìn)口件或國(guó)產(chǎn)件

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