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三河建華高科有限責(zé)任公司
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更新時(shí)間:2023-06-26 09:11:46瀏覽次數(shù):363次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 包裝印刷網(wǎng)該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等領(lǐng)域的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光
該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等領(lǐng)域的雙面對(duì)準(zhǔn)和曝光。
主要技術(shù)特點(diǎn)
對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)
高精度薄型精密雙層三維對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái),采用交叉滾柱V形導(dǎo)軌副和θ向超薄軸承及中心滑塊結(jié)構(gòu),保證了工作臺(tái)的直線性和旋轉(zhuǎn)精度。
機(jī)械手機(jī)構(gòu)
機(jī)械手采用直線導(dǎo)軌和滾珠絲杠結(jié)構(gòu),具有高的定位精度和重復(fù)精度。
上版架系統(tǒng)
上掩模版的升降導(dǎo)軌選用THK可調(diào)分離型直線導(dǎo)軌,驅(qū)動(dòng)采用高分辨率的數(shù)顯微分頭,從而保證兩掩模版的重復(fù)精度和定位精度。
對(duì)準(zhǔn)觀察系統(tǒng)
雙光路結(jié)構(gòu)的臥式分離視場(chǎng)顯微鏡,可以獲取高清晰的圖像同時(shí)兼容CCD成像顯示。
曝光系統(tǒng)
上、下兩套獨(dú)立的紫外光曝光系統(tǒng),采用*的結(jié)構(gòu)方案,具有較高的光強(qiáng)、均勻性、光學(xué)分辨率。
主要技術(shù)指標(biāo)
性能名稱 | 技術(shù)指標(biāo) | ||
適用基片尺寸 | Max. φ6″(φ150mm) | ||
適用掩模版尺寸 | Max. 7″(175mm×175mm) | ||
上下掩模版對(duì)準(zhǔn)行程 | X向 | ±4mm | |
Y向 | ±4mm | ||
θ向 | ±7.5° | ||
上下掩模對(duì)準(zhǔn)精度 | ±3μm | ||
掩模版對(duì)基片對(duì)準(zhǔn)行程 | X向 | ±4mm | |
Y向 | ±4mm | ||
θ向 | ±5° | ||
掩模對(duì)基片對(duì)準(zhǔn)精度 | ±3μm(以單一面兩標(biāo)記形位檢測(cè)) | ||
機(jī)械手Z向行程 | 5mm | ||
機(jī)械手與下掩模版分離距離 | 0~100μm | ||
顯微鏡 | 物鏡放大率 | 6.5× | |
目鏡放大率 | 10× | ||
總放大倍數(shù) | 65× | ||
物鏡分離距離 | 90~140mm | ||
曝光光源 | 365nm,500W進(jìn)口汞燈 | ||
光強(qiáng) | ≥20mW/cm2 | ||
曝光面積 | φ160mm | ||
曝光分辨率 | 6um(正膠、膠膜膜厚不大于1um) | ||
曝光不均勻性 | ±5% | ||
曝光時(shí)間 | 0~999s | ||
外型尺寸 | 1178mm×1136mm×1752mm | ||
重量 | 560Kg |
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