詳細(xì)摘要: 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-27 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備
行業(yè)產(chǎn)品
三河建華高科有限責(zé)任公司
詳細(xì)摘要: 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-27 在線留言詳細(xì)摘要: BG-406系列曝光機(jī)主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導(dǎo)體器件制造工藝中的對準(zhǔn)和曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-27 在線留言詳細(xì)摘要: 該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等領(lǐng)域的雙面對準(zhǔn)和曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-26 在線留言詳細(xì)摘要: 該設(shè)備主要用于半導(dǎo)體光電器件、功率器件、傳感器、混合電路、微波器件及微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)等領(lǐng)域的雙面對準(zhǔn)和曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-26 在線留言詳細(xì)摘要: 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-25 在線留言詳細(xì)摘要: 主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-25 在線留言詳細(xì)摘要: 該設(shè)備為全自動曝光設(shè)備,主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-06-21 在線留言詳細(xì)摘要: 該設(shè)備主要用于LED、MEMS、IC等行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)晶圓勻膠、、顯影、預(yù)烘工藝
產(chǎn)品型號:所在地:更新時間:2023-03-17 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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