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三河建華高科有限責(zé)任公司

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BG-401B曝光機(jī)（LED）

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三河建華高科有限責(zé)任公司

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產(chǎn)品簡介

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光

詳細(xì)介紹

主要用于中小規(guī)模集成電路和半導(dǎo)體元器件制造工藝中的對準(zhǔn)及曝光。本產(chǎn)品采用LED光源，操作方便、穩(wěn)定性高、重復(fù)性好，并具有較高的性能價(jià)格比，可廣泛應(yīng)用于科研和生產(chǎn)。

主要技術(shù)特點(diǎn)

對準(zhǔn)工作臺

對準(zhǔn)精度搞，漂移小，精密楔形誤差補(bǔ)償機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)三點(diǎn)找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命

曝光系統(tǒng)

紫外光曝光系統(tǒng)采用了柱體蠅眼透鏡和多點(diǎn)UVLED燈，光能利用率高，光強(qiáng)分布均勻。

分離視場顯微鏡

在X、Y方面進(jìn)行大范圍掃描觀察，可進(jìn)行單視場或雙視場切換，提高對準(zhǔn)效率和套準(zhǔn)精度，同時(shí)兼容CCD成像顯示功能。

控制系統(tǒng)

電氣控制采用可編程序控制器（PLC）、LCD顯示器，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設(shè)備的關(guān)鍵件采用進(jìn)口或?qū)I(yè)廠家制造，氣動元件采用SMC產(chǎn)品，提高了設(shè)備的穩(wěn)定性、可靠性，同時(shí)提供個(gè)性化服務(wù)。

主要技術(shù)指標(biāo)

性能名稱		技術(shù)指標(biāo)
適用基片尺寸		Max. φ4″（φ100mm）
適用掩模版尺寸		Max. 5″（125mm×125mm）
工作臺行程	Ｘ向	±5mm
	Y向	±5mm
	Z向	3mm
	θ向	±12°
基片與掩模版分離間隙		0～0.05mm
對準(zhǔn)精度		±1μm
分離視場顯微鏡	目鏡	10×
	物鏡	10×
	物鏡分離距離	28～90mm
	掃描范圍	50mm×50mm
	調(diào)焦范圍	8mm
曝光光源		250W進(jìn)口超高壓汞燈
光強(qiáng)		≥15mW/cm²
曝光面積		φ108mm
曝光分辨率		1.5μm（真空接觸）
曝光不均勻性		±3%
曝光時(shí)間		0～999s
整機(jī)功率		1000W
外型尺寸（長×寬×高）		740mm×830mm×1300mm

關(guān)鍵詞:

曝光

視場

采用

分離

主要

對準(zhǔn)

尺寸

設(shè)備

光強(qiáng)

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