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行業(yè)產(chǎn)品

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(帶Load_Lock裝置)全自動型磁控濺射臺

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地北京市

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更新時間：2023-07-03 09:09:05瀏覽次數(shù)：152次

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經(jīng)營模式：其他

商鋪產(chǎn)品：27條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：林平

產(chǎn)品簡介

詳細描述本產(chǎn)品通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證

詳細介紹

詳細描述


本產(chǎn)品通過對真空系統(tǒng)、工作壓強、射頻電源匹配、氣體流量及工藝過程的全自動控制，使工藝的重復(fù)性、穩(wěn)定性、可靠性得到有效保證。

本設(shè)備的數(shù)字化參數(shù)界面和自動化操作方式為用戶提供了優(yōu)良的研發(fā)和生產(chǎn)平臺。

本產(chǎn)品增加的進樣室采用機械手自動取送片，自動化程序更高，并能使反應(yīng)室的真空與工作環(huán)境得以改善。

本產(chǎn)品通過軟、硬件相互配合的互鎖、智能監(jiān)控、在線狀態(tài)記憶、斷點保護等設(shè)計，結(jié)合各種硬保護裝置、使設(shè)備的安全性、可靠性得到有效保證。

本設(shè)備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。

 

產(chǎn)品主要性能指標  

                 

型號

MSP-3000

真空系統(tǒng)

進樣室：機械泵系統(tǒng)；刻蝕室：分子泵機組。

濺射靶規(guī)格

?80mm、?100mm、?150mm可選。

反應(yīng)室數(shù)量

1-3可選

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)、可定位、轉(zhuǎn)速連續(xù)可調(diào)

濺射不均勻性

≤ ±5%

濺射工位

6工位

濺射方式

定靶濺射，旋轉(zhuǎn)濺射。

濺射形式

多靶系列可實現(xiàn)單一靶材濺射，復(fù)合靶材濺射，兩種材料交替濺射。

自動化程度

真空系統(tǒng)、下游壓力閉環(huán)控制、射頻電源、氣體流量、工藝過程全自動化控制。

人機界面

Windows環(huán)境、觸摸屏操作。

操作方式

全自動方式、非全自動方式。

自動化裝置的選配

可選擇進口件或國產(chǎn)件

取/送樣片方式

機械手自動取/送樣片

 

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