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上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間：2023-07-03 11:33:46瀏覽次數(shù)：264次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 包裝印刷網(wǎng)產(chǎn)品概要： 光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等。ECOPIA為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶(hù)的青睞。
光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等；ECOPIA為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶(hù)的青睞。
產(chǎn)地：韓國(guó)ECOPIA公司；
型號(hào)：M-150
技術(shù)規(guī)格：
- 掩模尺寸：7英寸；
- 樣品尺寸：6英寸；
- 卡盤(pán)移動(dòng)：X,Y,Z,Theta軸手動(dòng)，楔形補(bǔ)償調(diào)平；
- 紫外光源：6.25" X 6.25"；
- 光源功率：350瓦紫外燈；
- 光源均勻性：<+/-3%；
- 光源365nm波長(zhǎng)強(qiáng)度：30毫瓦；
- 顯微鏡：雙顯微鏡系統(tǒng)；
- 顯微鏡移動(dòng)：X,Y,Z軸手動(dòng)調(diào)節(jié)；
- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm；
- 標(biāo)配放大倍率：80X-400X；
- 顯示器：20" LCD；
- 曝光時(shí)間：0.1-999秒；
- 接觸模式：真空接觸，硬接觸，軟接觸，接近接觸(距離可調(diào))；
- 對(duì)準(zhǔn)精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；
- 電源：220V，單相，15安培；
主要特點(diǎn):
- 光源強(qiáng)度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系統(tǒng)控制：手動(dòng)、半自動(dòng)和全自動(dòng)控制；
- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盤(pán)范圍可調(diào)；
- 技術(shù)：可雙面對(duì)準(zhǔn)，可雙面光刻，具有IR和CCD模式
- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng)，放大1000倍，顯示屏直接調(diào)節(jié)，比傳統(tǒng)目鏡對(duì)準(zhǔn)更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盤(pán)可定做；
- 具有楔形補(bǔ)償功能；
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