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多波長光源UVW25紫外曝光機

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更新時間：2023-07-22 08:33:10瀏覽次數(shù)：458次

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產(chǎn)品簡介

簡易的紫外線腔室柜該紫外線腔室工具集中于一點：光致抗蝕層的UV曝光

詳細介紹

UV-chamber-UVW25-microfluidic-microfabrication-150x150.png UVW25-exposure-microfluidic-microfabrication-UVled-lithography-VC-200x200.png

簡易的紫外線腔室柜
該紫外線腔室工具集中于一點：光致抗蝕層的UV曝光。這是一個使用UV LED工作的便攜簡易設(shè)備，可確保較長的使用壽命及的中心曝光波長，且無需加熱或冷卻時間。您可以對設(shè)備的曝光功率和曝光時間這兩個主要參數(shù)進行調(diào)節(jié)，以有效地加工微流體模具。

● 可編程的功率和曝光時間
● 簡易的遮罩位置
● 快速且易于使用
● 不需要潔凈室

優(yōu)勢
● ＜15°的準直良好的光線
● 可編程的照明功率和曝光時間
● 可切換的UV LED光源（365nm，385nm，395nm，405nm）
● 提供軟光刻工藝的技術(shù)文檔和知識

價格低廉的簡易曝光設(shè)備
使用UVW25曝光機，操作簡單且高效。主要目標是使您的光刻膠暴露在所選的紫外光線下。

技術(shù)支持
我們對提供的所有設(shè)備均提供高水平的支持，同時也為曝光前后的相關(guān)微加工步驟提供支持。我們不僅可以幫助您完成加工流程的一部分，同時還可以在整個流程中為您提供指導(dǎo)。

技術(shù)規(guī)格
● 集成紫外線燈的UVW25曝光機，提供365nm、385nm、395nm或405nm四種不同的波長選擇，以適應(yīng)各種光刻膠。
● UVW25曝光機具有90%以上的曝光均勻性和15°以下的準直角
● 標稱曝光功率為250mW/cm2，但可以在20%至99%之間進行調(diào)節(jié)
● 托盤尺寸為300×300mm，因此可用于曝光6英寸的基材。
● 托盤可以通過5個不同的位置移開或移近紫外燈（它將定義典型的功率和暴露在表面上的區(qū)域），該位置有5個不同的位置：距離UV LED燈的發(fā)射窗口5/10/15/20/或25cm。
● UVW25的正面有一個安全窗口，可以在曝光期間無風(fēng)險地看到曝光過程。