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紫外曝光機

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產(chǎn)品簡介

詳細介紹

紫外曝光機


型號:  MA6
廠家: 德國Karl Süss公司
技術指標: 
  曝光光源:UV1000
  光源波長:365nm 
  光源均勻性:<3.1%
  晶片尺寸:2-6英寸 
 接觸方式:真空,低真空接觸, 硬接觸,  軟接觸和接近式接觸
 對準模式:正和背面兩種對準方式
 最小線寬:0.5 μm
 對準精度:  ±0.5 μm
主要功能及應用范圍:
采用紫外光源,制作亞微米(最小線寬0.5 μm)的圖形??捎糜诟鞣N微器件的制作和低維人工結(jié)構(gòu)的形成,如制作下列器件結(jié)構(gòu):微電子器件,光電子器件,生物傳感器,微機電系統(tǒng),超導電子學器件,磁電子學器件等,也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。
主要附件: 涂膠機;HP8熱板;顯影機,光學顯微鏡

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