詳細摘要: 雙面光刻機CPN-MASK-5075本型號光刻機是專為生產(chǎn)中、大規(guī)模集成電路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而設計制造的
產(chǎn)品型號:所在地:??谑?/b>更新時間:2023-06-29 在線留言中普尼實業(yè)集團(海南)有限公司
詳細摘要: 雙面光刻機CPN-MASK-5075本型號光刻機是專為生產(chǎn)中、大規(guī)模集成電路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而設計制造的
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