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雙面光刻機(jī)CPN-MASK-5075

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雙面光刻機(jī)CPN-MASK-5075本型號(hào)光刻機(jī)是專為生產(chǎn)中、大規(guī)模集成電路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而設(shè)計(jì)制造的

詳細(xì)介紹

雙面光刻機(jī)CPN-MASK-5075本型號(hào)光刻機(jī)是專為生產(chǎn)中、大規(guī)模集成電路、CCD、表面波、磁泡、微波等器件的光刻需要而設(shè)計(jì)制造的。它可以將兩塊掩模上的各種圖案經(jīng)紫外光束的曝光，從上下兩面分別或同時(shí)轉(zhuǎn)印至硅片或其它基片的正反面上，再經(jīng)其它工序的處理，從而獲得完整的微電子器件。

本機(jī)為適應(yīng)各電子器件廠對(duì)CPN-MASK-3575型光刻機(jī)的使用習(xí)慣，故保留了CPN-MASK-3575型光刻機(jī)部分操作程序，尤其是為了提高光刻的質(zhì)量，本機(jī)的結(jié)構(gòu)、精度以及性能等方面作了大幅度的改進(jìn)。為減少使用者的疲勞，顯微鏡采用雙目觀察和平視場(chǎng)物鏡，成像清晰，景深較長(zhǎng)。

由于本型號(hào)光刻機(jī)具有上述種種特點(diǎn)，是成批生產(chǎn)微電子器件較為適合的光刻設(shè)備。


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