青島佳鼎分析儀器有限公司
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2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級光刻系統(tǒng)
2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF (248 nm) Step&Scan300mm雙級光刻系統(tǒng)。TWINSCAN AT:850B光刻機采用Carl Zeiss Starlith 850高級投影光學器件，數值孔徑 (NA)為0.80，這是KrF光刻機系統(tǒng)中可用的NA。
AT:850B光刻機具有行業(yè)的每小時95（300 毫米晶圓）的吞吐量，是 ASML 的 TWINSCAN雙級300毫米光刻平臺的成員。由于兩個階段同時工作，該平臺允許在另一個晶圓曝光的同時進行晶圓對齊和調平，從而大大提高了生產力和準確性。對準和調平臺與曝光操作的分離實際上消除了非生產性開銷時間，同時確保了制造精度。臺AT:850B系統(tǒng)將于本月交付給亞洲的一個主要客戶。
ASML 預計 AT:850B 將成為一個大批量生產系統(tǒng)，用于廣泛的設備制造，包括110nm 及以下設計規(guī)則的非常*的存儲器和邏輯生產。ASML的高性能200mm光刻系統(tǒng)PAS 5500/850B™ 中也提供相同的Starlith 850高數值孔徑投影光學器件。隨著TWINSCAN AT:850B光刻機和PAS 5500/850B系光刻機的加入，ASML現在為300毫米或200毫米晶圓廠生產提供的擁有價值解決方案，在每種制造技術（i-line、KrF）中具有的NA和ArF。
“這些新的高NA系統(tǒng)是個使用KrF技術實現110nm特征尺寸芯片的批量生產，"ASML營銷和技術執(zhí)行副總裁Martin van den Brink說：“通過擴展經過生產驗證的KrF技術，我們正在為我們的客戶提供一種強大的成本效益手段，以縮小現有芯片設計并更快地將的芯片推向市場。"
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