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氣流循環(huán)裝置：內(nèi)置空調(diào)間、循環(huán)風(fēng)道及通風(fēng)電機(jī)

單片濕法刻蝕設(shè)備，能適應(yīng)HF,HCL,H3PO4等多種刻蝕液，可刻蝕金屬有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等

專用噴膠設(shè)備，適用于表面刻有深孔的高表面形貌圓形或方形基片的噴涂工藝要求，旋流式錐形霧化，可均勻覆蓋臺(tái)階表面，噴嘴有自動(dòng)清洗功能

見詳情表格晶片尺寸2-9英寸

設(shè)備自動(dòng)完成去膠、剝離工藝，藥液可循環(huán)利用，可配置去膠單元、清洗單元、浸泡單元，基片采用邊緣夾持接觸方式，采用扇狀噴液方式，可保證去膠效果的一致性；浸泡單元采用...

手動(dòng)上片后完成去膠、剝離工藝，再手動(dòng)下片

手動(dòng)上、下片

整體疊層布局，結(jié)構(gòu)緊湊，節(jié)省機(jī)臺(tái)占地空間；勻膠、顯影每層2個(gè)單元，烘烤熱處理單元采用4列布置方式，與工藝單元相對(duì)稱，每列放置單元數(shù)可達(dá)5個(gè)，且各單元有獨(dú)立排風(fēng)系...

Mini型全自動(dòng)勻膠顯影一體設(shè)備，采用我司自主研發(fā)設(shè)計(jì)的機(jī)器人與膠泵，并在客戶端成熟應(yīng)用

高產(chǎn)能機(jī)臺(tái)結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，布局采用的分體式結(jié)構(gòu)，高速機(jī)器人在工藝單元間傳遞，同時(shí)工藝單元中采用共用擺臂結(jié)構(gòu)，使單元結(jié)構(gòu)尺寸大幅減小，單元配置更加靈活；另外...

設(shè)備采用高效機(jī)械手，重復(fù)定位精度高、產(chǎn)能高，自動(dòng)完成勻膠、顯影工藝；配備烘烤及冷卻單元，工藝參數(shù)數(shù)字化檢測(cè)控制，自由編制、修改、儲(chǔ)存、調(diào)用工藝程序；故障、生產(chǎn)工...