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當前位置:深圳市誠峰智造有限公司>>等離子清洗機表面處理機>> 電子元件plasma等離子清洗機
產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質生產(chǎn)商
所 在 地深圳市
更新時間:2021-04-10 14:40:46瀏覽次數(shù):574次
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4D智能集成等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-IP-XXHD
名稱(Name)
4D智能集成等離子處理系統(tǒng)
型號(Model)
CRF-APO-IP-XXHD
電源(Power supply)
220V/AC,50/60Hz
功率(Power)
800W*4set/25KHz
功率因素(Power factor)
0.98
等離子噴槍數(shù)量(Number of plasma guns)
4(Max)
處理高度(Processing height)
5-15mm
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
RS485/RS232、模擬通訊口、啟停IO(RS485/RS232、Analog communication port、ON/OFF I/O)
工作氣體(Gas)
Compressed Air(0.4mpa)/N2(0.2mpa)
產(chǎn)品概述: 單個處理系統(tǒng)可攜帶2-4個各種類型等離子噴槍,全網(wǎng)絡匹配、智能集成一體化;
具有更節(jié)省空間、更多種類型的應用;
具有RS485/RS232、啟停I/O控制模式、方便快捷、降低成本;
使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境。
產(chǎn)品特點:可In-Line式安裝于客戶設備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低。
應用范圍:主要應用于電子行業(yè)的殼印刷、涂覆、點膠等前處理,屏幕的表面處理;工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉移印刷前處理等。
電子元件plasma等離子清洗機
等離子表面處理機膠去除法,除膠氣體為氧氣。該方法通過將電路板置于真空反應系統(tǒng)中,通入少量氧氣,再加上高頻高壓,由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號,在石英管中形成較強的電磁場,將氧離子化,形成氧離子、活化氧原子、氧分子和電子等混合物質的輝光柱?;钚匝?活性原子態(tài)氧)能快速將殘留的膠氧化為揮發(fā)性氣體,并進行揮發(fā)帶走。
電路板上面的殘留物被抽走后,電路板就會清洗干凈了。等離子表面處理機去膠的優(yōu)點是去膠操作簡單,去膠效率高,表面清潔光潔,無劃痕,成本低,環(huán)保。
等離子表面處理機去膠機加工是微細加工的重要環(huán)節(jié),在電子束曝光、紫外曝光等微細納米加工后,都需要對光刻膠進行去除或打底膜處理。去除了光刻膠的干凈程度對樣品是否存在損壞等問題,將直接影響后續(xù)工藝的順利實施。
CRF誠峰智造等離子表面處理機采用性能優(yōu)良的部件,可以精準控制工藝參數(shù),其工藝監(jiān)控和數(shù)據(jù)采集軟件可以實現(xiàn)嚴格的質量控制。此項技術已成功地應用于功率晶體管,模擬器件,傳感器,光學器件,光電,電子元器件,MOEMS,生物器件,LED等領域。
采用CRF誠峰智造等離子去膠機對PCB板上的污染物進行了去除,效果十分明顯。等離子體除膠機具有工藝簡單、可靠、效率高、處理后的特點,無酸廢水及其他殘留物。
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