性能指標(biāo)
電鏡分辨率:
- 高真空模式:0.7 nm @ 15 kV, 1.4 nm @ 1 kV,1.7 nm@500 V;減速模式:1.0 nm @ 1 kV-SE,1.2 nm@200 V-SE;
- 景深模式:2 nm@30 kV;低真空模式:3 nm @ 30kV-SE, 2 nm @ 30 kV-BSE;
- 放大倍數(shù)@30 kV:4x-1,000,000x;加速電壓:200 V~30 kV,連續(xù)可調(diào);束流大?。?pA~400nA。
物鏡模式(TriLensTM三物鏡系統(tǒng)):
- 超高分辨模式、分析模式、景深模式、大視野模式、無交叉模式
- 探測(cè)器:SE探測(cè)器(TriSETM):In-Chamber SE(樣品室)、In-Beam SE(極靴內(nèi))、SE(BDM);
- BSE探測(cè)器(TriBETM):In-Chamber BSE、Mid-Angle BSE、In-Beam BSE。
- 低真空二次電子檢測(cè) 器(LVSTD);
- 樣品室紅外CCD探測(cè)器。
WITec共聚焦拉曼顯微鏡:
- 532 nm(75 mW)和785 nm(125 mW)激發(fā)波長;
- 刻線光柵:配置300, 600, 1200 lines/mm@500 nm,全自動(dòng)切換;
- 光譜分辨率:優(yōu)于1.5cm-1; 光學(xué)物鏡:WD=4.0 mm,100x,NA=0.75; 掃描范圍:250μm*250μm*250μm。
- 共聚焦分辨率:2 μm(532 nm); 圖像空間分辨率XY方向:360nm(532nm); 光譜范圍:95-4000cm-1(532nm);
主要應(yīng)用
- 該設(shè)備集成了掃描電子顯微鏡與WITec共聚焦拉曼成像的兩個(gè)系統(tǒng),兩者分別具有亞納米和衍射限制的200-300 nm分辨率。
- 可提供獨(dú)立SEM和共焦拉曼顯微鏡的所有功能和特性,并且能夠?qū)呙桦A段的樣品自動(dòng)轉(zhuǎn)移至光學(xué)顯微鏡處進(jìn)行原位表征,最終可獲取拉曼和SEM的疊加圖像。
- 可應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、光電、太陽能電池、光刻膠、生命科學(xué)等領(lǐng)域。
樣品要求
- 樣品高度小于50 mm,直徑小于30mm;
- 固體干燥樣品,不接受磁性樣品或易磁化樣品。
- 拉曼測(cè)試樣品要盡可能平整。
儀器說明
- WITec共聚焦拉曼光譜顯微鏡——更高的共焦拉曼成像速度、靈敏度和分辨率;優(yōu)秀的深度分辨率適合三維圖像生成和深度分析;非破壞性成像技術(shù):樣品無需染色固定;
- 肖特基場(chǎng)發(fā)射高分辨掃描電鏡——TriglavTM電子鏡筒、TriLensTM物鏡和探測(cè)系統(tǒng),擁有的信噪比,能夠獲取各種納米材料的表面細(xì)節(jié)、出色的形貌和成分襯度;尤其是低電壓或電子減速模式下對(duì)電子束高敏感的材料或不導(dǎo)電材料的成像(低k系數(shù)介電材料、光刻膠、不導(dǎo)電材料、原始狀態(tài)的生物材料)。