NEJ-EH200型電流體噴印設(shè)備是國創(chuàng)科為電噴印工藝應(yīng)用而研發(fā)的高精度電流體噴印設(shè)備。其具有完整的點(diǎn)噴、近場直寫、霧化功能，具有微米級的定位精度，適合于電噴印工藝的開發(fā)以及相關(guān)功能結(jié)構(gòu)、器件的制備。

詳細(xì)介紹

技術(shù)參數(shù)

●基板尺寸：200mm*200mm
●定位精度：≤±5μm
●重復(fù)精度：≤±3μm
●X/Y軸打印速度：200mm/s
●打印墨滴：可達(dá)fL級
●打印頻率：1000Hz
●高壓供電：0-±5000V
●視覺系統(tǒng)：精密定位視覺+精密觀測視覺

裝備技術(shù)優(yōu)勢

大理石基座提升運(yùn)動穩(wěn)定性
高精度直線電機(jī)提升運(yùn)動精準(zhǔn)性
支持矢量圖、位圖；內(nèi)置基本圖元
基臺配備真空吸附/加熱

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