中國.鑫有研電子科技有限公司
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更新時間：2023-07-04 09:26:48瀏覽次數(shù)：284次
聯(lián)系我時，請告知來自 包裝印刷網無掩膜數(shù)字光刻機(工業(yè)型）DS-2000/14G技術特點：該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(tǒng)（可同時使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設定采用微機控制，菜單界面友好，操作簡便
無掩膜數(shù)字光刻機(工業(yè)型）
DS-2000/14G
技術特點：
該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(tǒng)（可同時使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設定采用微機控制，菜單界面友好，操作簡便。
主要技術指標
曝光光源：350W汞燈
曝光譜線： i線（365nm)
照明均勻性：±2%；
曝光場面積：1mm×0.75mm
光刻分辨力：1μm
CCD檢焦，檢測精度：2um
工件臺運動定位精度：±0.65μm；
調焦臺運動靈敏度：1μm；
工件臺運動范圍：X：100mm、 Y：100mm；
對準精度： ±1μm；
調焦臺運動行程：±6mm
轉動臺行程：±6°以上
基片尺寸：外徑: Ф1mm—Ф100mm，
厚度：0.1mm—8mm
3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) ×830mm（高）
無掩模光刻機系統(tǒng)關鍵技術：曝光光學系統(tǒng)、光勻化技術、圖形發(fā)生器、投影物鏡、對焦系統(tǒng)、對準系統(tǒng)、精密工件臺、步進拼接、控制軟件等
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