紫外曝光機

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產品型號FPMIC-aligner

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更新時間：2023-04-02 09:28:44瀏覽次數：407次

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產品簡介

這款紫外曝光機非常適合對紫外光敏感層曝光處理，是理想的紫外掩膜曝光機系統(tǒng)和掩膜對準機,maskaligner.紫外曝光機廣泛用于光學，生物，微納科技，光刻等領域需要1-2掩膜的應用

詳細介紹

這款紫外曝光機非常適合對紫外光敏感層曝光處理，是理想的紫外掩膜曝光機系統(tǒng)和掩膜對準機,mask aligner.紫外曝光機廣泛用于光學，生物，微納科技，光刻等領域需要1-2掩膜的應用。
紫外掩曝光機特點
1)的單色曝光，曝光帶寬小于10nm;
2)冷紫外曝光，襯底環(huán)境溫度實時控制，從而實現均勻曝光，消除熱效應；
3）的功率密度
4）紫外LED壽命更長，高達10000小時；
5）方便用戶使用的觸摸屏配置；
6）不需要預熱；
7）計算機控制紫外光源強度調節(jié)；
8）自動晶圓裝載和卸載功能；
9）超低能耗；
更多激光直寫光刻機請瀏覽：/guangkeji.html
紫外掩曝光機參數
分辨率：2微米
發(fā)射光譜：365+/-5nm, 385+/-5nm
4英寸晶圓照明： 25mW/cm^2 +/-10%
暴曬時晶圓溫度加熱:<1攝氏度
暴曬循環(huán)：1秒~18小時
記憶的曝光循環(huán)數： 10個
功率：180W
重量：8.2kg
尺寸: 260x260x260mm^2
電源： 110V/230v50Hz