H20-UVL真空紫外光譜儀在高真空環(huán)境下覆蓋100-400nm（3-12.4eV），在大氣環(huán)境下覆蓋190nm-400nm（3-6.5eV）。配備測微狹縫和蝸輪驅動實現快速精確的光譜掃描。

搭配真空紫外光源，H20-UVL可作為一個優(yōu)異的真空紫外單色光源使用。在分辨率要求不高的情況下，配備單通道探測器，H20-UVL還是一個性價比較高的真空紫外光譜分析系統(tǒng)。

主要特點

基于HORIBA Jobin Yvon技術，H20-UVL圍繞一片具有像差矯正能力的4型凹面光柵設計。64°偏轉角針對真空紫外波段優(yōu)化。

這種簡單的光學設計大幅降低了像散，提高像平面的光通量和光譜純度，避免了傳統(tǒng)的Czerny Turner光路在140nm以下因為多次反射而造成的光強損失。

應用領域

透射反射測量

紫外可調濾波/光源

激光諧波濾波

真空紫外質量控制