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去膠剝離機(jī)AST-222Metal Lift off

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更新時(shí)間：2023-08-20 11:35:04瀏覽次數(shù)：393次

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設(shè)備配置 2 Soak、2 Stripper、2 Clean
設(shè)備產(chǎn)能 60WPH
襯底材質(zhì) Si、Glass、Sapphire、GaAs、InP、GaN、SiC、LT、LN
適用工藝 金屬剝離、光刻膠去除
工藝指標(biāo) 顆?？刂?le;20ea@0.2μm，金屬去除率＞99%，光刻膠去除率＞99%
應(yīng)用領(lǐng)域 *封裝、MEMS、功率器件、射頻集成電路、半導(dǎo)體光學(xué)、光通訊、科研等
技術(shù)特征 ?設(shè)備為全自動(dòng)機(jī)臺(tái)，可自動(dòng)完成去膠、金屬剝離工藝；
?設(shè)備配置浸泡、去膠、清洗三種工藝腔體，浸泡單元采用浸泡和超聲波輔助對(duì)晶圓表面的光刻膠溶解；
?去膠單元采用高壓柱狀或扇狀噴嘴對(duì)晶圓表面的金屬和光刻膠進(jìn)行去除；
?清洗單元將晶圓表面的去膠液和顆粒清洗干凈，最終實(shí)現(xiàn)晶圓的干進(jìn)干出；
?去膠液循環(huán)系統(tǒng)采用多級(jí)過(guò)濾，可實(shí)現(xiàn)循環(huán)使用。
設(shè)備尺寸 2550*1950*2500（W*D*H）

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