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蔡司Sigma 300 場發(fā)射掃描電鏡

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更新時間:2022-01-18 11:26:18瀏覽次數(shù):563次

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產(chǎn)品描述蔡司公司推出Sigma300場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計,將低電壓成像技術(shù)發(fā)揮到了,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息

蔡司Sigma 300 場發(fā)射掃描電鏡.jpg

產(chǎn)品描述

蔡司公司推出Sigma300場發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計,將低電壓成像技術(shù)發(fā)揮到了,采用適宜的探針電流范圍,降低50%的信噪比從而提升了85%的襯度信息。Sigma300將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合,多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma自動的四步工作流程大大節(jié)省了設(shè)置與分析操作的時間,提高效率。

產(chǎn)品應(yīng)用

掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等 檢驗和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析,各種材料的形貌組織觀察,材料斷口分   析和失效分析,材料實時微區(qū)成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測量,晶體、晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶 粒取向測量。

技術(shù)參數(shù)

  • 分辨率:1.0nm@30kV STEM 、1.0nm @15 kV  、1.8nm @1kV
  • 放大倍數(shù):10-1,000,000×
  • 加速電壓:調(diào)整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實現(xiàn))
  • 探針電流: 3pA~20nA(100nA選配)  穩(wěn)定性優(yōu)于 0.2%/h
  • 低真空范圍: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
  • 樣品室: 365 mm(φ),275mm(h)
  • 樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動    X=125mm  Y=125 mm  Z=50 mm  T=-10o-90o  R=360o 連續(xù)
  • 系統(tǒng)控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統(tǒng),可選鼠標(biāo)、鍵盤、控制面板控制
  • 存儲分辨率:32k x 24k pixels

 

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