納米*改性丙烯酸樹脂研磨分散機(jī),納米*研磨分散機(jī),共混法納米*改性丙烯酸樹脂研磨分散機(jī),納米材料研磨分散機(jī),改性納米*研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī)
丙烯酸樹脂是由丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯以及其他烯屬單體共聚制成的樹脂,與其他合成高分子樹脂相比,丙烯酸樹脂具有許多突出的優(yōu)點(diǎn),如優(yōu)異的耐光、耐候性,戶外暴曬耐久性強(qiáng),耐紫外光照射不易分解和變黃,能*保持原有的光澤和色澤,耐熱性好,有較好的耐酸、堿、鹽、油脂和洗滌劑等化學(xué)品沾污及腐蝕性能,*的柔韌性和zui低顏料反應(yīng)性。因此,在汽車、家電、金屬家具、卷材工業(yè)、儀器儀表、建筑、紡織品、木制品、造紙和塑料制品等工業(yè)上有著廣泛的應(yīng)用。丙烯酸樹脂的線形結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的熱黏冷脆、抗回黏性和耐熱性不佳等缺點(diǎn)對其應(yīng)用范圍有一定限制。隨著納米科技的快速發(fā)展,納米材料已廣泛地應(yīng)用于丙烯酸樹脂改性,使其各項(xiàng)性能獲得提高。
納米*(TiO2)是一種新型的無機(jī)材料,具有比表面大、表面活性高、光吸收性能好,且吸收紫外線的能力強(qiáng)等*的性能,廣泛用于塑料、涂料、醫(yī)藥、化工、航天、傳感器材料、防曬化妝品添加劑、環(huán)境工程和新型材料等眾多領(lǐng)域。
利用納米TiO2共混法改性聚丙烯酸樹脂,其乳液的黏度隨粉體含量增加而提高,但是提高幅度隨著粉體增加而逐漸變緩;加入納米粉體后,薄膜的抗張強(qiáng)度先增加再減小,其中在粉體含量為1%時呈現(xiàn)zui高值;加入納米粉體后,薄膜的吸水*增加再減小,然后再增加,其中在粉體含量為1%時吸水率zui小;加入納米粉體后,膜耐黃變性能提高明顯,且隨著粉體含量的提高,膜的耐黃變性能提高明顯。
,納米*研磨分散機(jī),共混法,納米材料研磨分散機(jī),改性納米*研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī)
CMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。
研磨分散機(jī)的優(yōu)勢:
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.
更可靠 采用整體式機(jī)械密封,zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用先x的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
設(shè)備核心參數(shù):
設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
,納米*研磨分散機(jī),共混法,納米材料研磨分散機(jī),改性納米*研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī)
CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
,納米*研磨分散機(jī),共混法,納米材料研磨分散機(jī),改性納米*研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī)