產(chǎn)品展示
SKII-C型二次曝光曬版機(jī)
【簡單介紹】
【詳細(xì)說明】
特點(diǎn): ·微機(jī)控制,鍵盤操作,具有數(shù)據(jù)存儲(chǔ)功能,自動(dòng)曬版。 ·曬版光源采用快門裝置,主輔曝光,定時(shí)控制,曬版迅速。 ·具備二次抽氣程序,雙回路抽氣系統(tǒng),網(wǎng)點(diǎn)結(jié)實(shí)清晰。 ·外形采用全封閉結(jié)構(gòu),靜電噴塑,色彩柔和挺刮。 | |||||||||||||||||||||
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