WKWY-300彩色紋影儀是利用光在被測流場中的折射率梯度正比于流場的氣流密度的原理，將流場中密度梯度的變化轉(zhuǎn)變?yōu)橛涗浧矫嫔舷鄬鈴姷淖兓?，使可壓縮流場中的激波、壓縮波等密度變化劇烈可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學反應(yīng)等學科的流場密度變化科學研究。

紋影儀可用來觀察透明介質(zhì)因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質(zhì)作用、分層流、多項流、傳熱與傳質(zhì)、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內(nèi)彈道及某些化學反應(yīng)等學科的流場密度變化科學研究。泰普勒紋影儀是傳統(tǒng)、使用*的一種。

WKWY-300彩色紋影儀系統(tǒng)主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統(tǒng)、主球面反射鏡裝調(diào)機構(gòu)、刀口成像系統(tǒng)三個部分。其中，光源狹縫系統(tǒng)和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統(tǒng)，刀口成像系統(tǒng)與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統(tǒng)，分別布局于兩個平臺上。

技術(shù)參數(shù)：

其中主反射鏡光學材料：K9光學玻璃，應(yīng)力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜，反射系數(shù)≥90%，面型精度＜1/10波長。