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行業(yè)產(chǎn)品

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上海雙金電子科技有限公司


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EM3i系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地上海市

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更新時間:2024-07-01 10:25:33瀏覽次數(shù):111次

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經(jīng)營模式:其他

商鋪產(chǎn)品:68條

所在地區(qū):上海上海市

產(chǎn)品簡介

EM3i系統(tǒng)是一種專用、自動化、省時且用戶友好的系統(tǒng),可在廣泛的應(yīng)用中為橫截面和平面視圖提供 TEM/STEM 和 SEM 樣品制備。EM3 系統(tǒng)采用低溫冷卻干鋸工藝,可制備結(jié)晶或無定形材料的樣本。輸出樣本安裝在兼容的 TEM 支架上,允許返工。

詳細介紹

EM3i系統(tǒng)是一種專用、自動化、省時且用戶友好的系統(tǒng),可在廣泛的應(yīng)用中為橫截面和平面視圖提供 TEM/STEM 和 SEM 樣品制備。EM3 系統(tǒng)采用低溫冷卻干鋸工藝,可制備結(jié)晶或無定形材料的樣本。輸出樣本安裝在兼容的 TEM 支架上,允許返工。

系統(tǒng)亮點

  • 適用于特定場地和一般區(qū)域

  • 允許對 TEM 樣品進行多次返工

  • 與廣泛而集中的離子銑削接口

  • 提高總體吞吐量

  • 改進產(chǎn)量分析

  • 改善表征

  • 擁有成本低

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防紫外線遮蔽膠技術(shù)

通過離子銑削制備 TEM 薄片樣品的過程需要遮蔽目標(biāo)區(qū)域,以防止過度銑削目標(biāo),并允許實現(xiàn)極薄的 TEM 薄片而沒有偽影。

的 Protected UV Masking Glue 的之處在于它能夠防止高能離子束過度研磨目標(biāo),填充晶圓工藝光刻中的非常小的空間,并保護晶圓頂層的極薄薄片免受離子損壞光束。

Protected UV Masking Glue 的工作原理

          

防紫外線遮蔽膠的性能

  • Protected Masking Glue 具有導(dǎo)電性,可避免在離子銑削過程中帶電。

  • Protected Masking Glue對不同的晶圓材料有很強的附著力。

  • Protected Masking Glue 具有低粘度和納米尺寸的導(dǎo)電材料,可以填充晶圓光刻中小至幾納米尺寸的狹窄空間。

  • Protected Masking Glue 可在幾十秒內(nèi)進行紫外線固化。

EM3i 系統(tǒng)中使用受保護的 UV 掩蔽膠技術(shù)來保護目標(biāo)區(qū)域,以便通過自適應(yīng)離子銑削進行后續(xù) TEM 樣品制備。當(dāng)掩模的導(dǎo)電性很關(guān)鍵時,這種保護方法可用于防止不同目的的目標(biāo)和區(qū)域的損壞。

查看EM3i系統(tǒng)中如何使用 UV 遮蔽膠

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