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WMZ-9190研究型硅片檢測(cè)顯微鏡

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安徽無(wú)陌光學(xué)儀器有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

大視野目鏡：10X無(wú)限遠(yuǎn)長(zhǎng)工作距離明暗場(chǎng)物鏡：5X 10X 40X 60X 100X支持光學(xué)放大：50X-1000X

詳細(xì)介紹

一、用途

WMZ-9190明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡，圖像清晰、襯度好，同時(shí)配有偏光裝置，及其高像素的數(shù)碼攝像頭. 本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.

硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等，造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象，使磨片不合格. 是太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中常用的檢測(cè)儀器之一.

目鏡
	PL L5X/0.12 工作距離：26.1 mm
	PL L40X/0.60 工作距離：3.98 mm
	PL L100X/0.90 工作距離：2.2 mm （干式）	30?傾斜,瞳距調(diào)節(jié)范圍53~75mm.	粗微動(dòng)同軸調(diào)焦,帶鎖緊和限位裝置,微動(dòng)格值:2μm.	五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位)	雙層機(jī)械移動(dòng)式載物臺(tái), 外形尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:63mmX50mm	6V30W鹵素?zé)?，亮度可調(diào)
	內(nèi)置視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、濾色片轉(zhuǎn)換裝置、推拉式檢偏器與起偏器	阿貝聚光鏡NA.1.25可上下升降
	配置藍(lán)濾色片與磨砂玻璃片
防霉
系統(tǒng)組成 1.硅片檢測(cè)顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器(CCD) 4.計(jì)算機(jī)（選購(gòu)） 1、硅片檢測(cè)顯微鏡 2、適配鏡 3、數(shù)碼相機(jī)（選購(gòu)）	分劃目鏡10X（Φ22mm）	明場(chǎng)物鏡 20X、50X、80X	0.5X、1X、0.5X帶分劃尺	USB輸出：130/300/500/1000萬(wàn)像素	CANON(EF) NIKON(F)	二維圖像測(cè)量分析軟件