蘇州中芯啟恒科學儀器有限公司
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采用光譜干涉原理，利用膜結構上下表面反射形成的干涉光譜分布，實現對膜結構的高精度測量，具有非接觸、無破壞、快速等特點。...
1. 膜厚測量儀的特點
1）采用光譜干涉原理進行測量，具有非接觸、無破壞、快速等特點；
2）可在真空環(huán)境使用；
3）可與大行程工件臺配合，實現大面積膜厚自動測量（下方左圖是系統結構，右圖是光譜分布）。
2. 膜厚測量儀的技術參數：
1）膜厚儀：測量范圍： 20nm—80μm；
2）光譜范圍：380nm—950nm；
3）測量重復性*1（RMS）：0.4nm；
4）測量精度*2（與橢偏儀對比）：2nm或1%（以值為準）；
5）入射角度：90°；
6）測試材料：透明或半透明薄膜材料；
7）光斑尺寸：標準1.5mm，20μm（選配）；
8）測量時間：100ms—4ms；
9）通信接口：USB2.0；
10）測試膜層層數：單層
11）材料庫：有
3. 膜厚測量儀的測試數據
4. 膜厚測量儀的設備組成：
測試主機、光纖、校正件、測量頭、夾持裝置、設備箱、手提電腦。
5. 膜厚測量儀的用途：
加工PDMS微流控芯片時，測量SU-8光刻膠硅片模具上，SU-8膠層的實際厚度
ITO玻璃膜厚測量
玻璃減反膜厚度測量
手機面板膜厚測量
有色眼科透鏡測量
太陽能鍍膜玻璃
透明或半透明襯底上的各種膜厚度測量
光學濾光片厚度測量
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