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超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀

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產(chǎn)品簡介

A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications. Measures the concentration of gases and vapours in real time.

詳細(xì)介紹

英國Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質(zhì)譜儀專為檢測超高真空容器中的存在組分而設(shè)計(jì)，針對真空診斷進(jìn)行精確的分析。

離子源為鍍金離子源，適合應(yīng)用在總壓小于5 x 10-10mbar的領(lǐng)域，其系統(tǒng)與EPIC離子/分子分析質(zhì)譜儀兼容。

 

 

            ·鍍金離子源，以減少離子源脫氣

            ·氧化物涂層雙銥絲的離子源

            ·雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測器


 

·質(zhì)量數(shù)范圍：   200，300 amu

·掃描速度：      100amu/s

·最小掃描步階：0.01amu

·靈敏度：         0.1 ppm～1ppm

·穩(wěn)定性：         24h以上，峰高變化小于±0.5%

·最小檢測分壓：5 x 10-14 mbar

·工作壓力：1 x 10-4 mbar

Mass Spectrometers for Residual Gas Analysis - RGA (1.35 MB)

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