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PE-CVD等離子體輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號PE-CVD

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更新時間：2023-08-24 12:46:45瀏覽次數(shù)：192次

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  等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

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商鋪產(chǎn)品：419條

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：無

詳細(xì)介紹

PE-CVD等離子體輔助化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

石墨烯（Graphene）自2004年發(fā)現(xiàn)以來，在短短數(shù)年間已經(jīng)成為凝聚態(tài)物理、化學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域研究中倍受矚目的“明星材料”。

化學(xué)氣相沉積（CVD）是目前制備石墨烯的較有效、也是較具研究價值的方法。搭建一套完整而高效的石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)并非易事，即使在系統(tǒng)搭建完成后，要真正制備出單層石墨烯，還需要較長時間的參數(shù)優(yōu)化。這往往使得科研人員錯過了較佳的研究時機(jī)。

系統(tǒng)參數(shù) ：

樣品腔

1、樣品腔材質(zhì)：高純度石英管 1根

2、直徑：50mm；長度：1500mm

3、端口：不銹鋼法蘭接口，內(nèi)置水冷卻結(jié)構(gòu)

4、接口：1/4寸不銹鋼管

等離子體發(fā)生器

1、功率輸出范圍: 0-500W

2、信號頻率: 13.56MHZ±0.005%

3、功率穩(wěn)定度：≤2W;

4、較大反射功率:100W

5、整機(jī)保護(hù)：DC過載保護(hù)、DC/功放過溫保護(hù)、反射功率保護(hù)、匹配超時保護(hù);

6、傳輸效率：＞90%

7、頻率自動匹配時間：3~5s

加熱爐

1、溫度范圍：室溫-1200°C

2、控溫精度：±1°C

3、加熱區(qū)長度：400mm

4、恒溫區(qū)長度：200mm

5、加熱元件：高電阻優(yōu)質(zhì)合金絲OCr27Al7Mo2

6、額定功率：2.5KW

7、工作電壓：220V

8、較大升溫速度：<15min （滑動模式：<10min）

導(dǎo)軌滑塊

1、爐臺滑動范圍：1200mm

2、移動方式：手動

氣體控制

1、氣體：Ar， H₂ ，CH₄

2、流量控制：

3、Ar(1000sccm), H₂(100sccm）, CH₄（50sccm）

4、流量控制器：日本小島

5、精度：1%，

6、輸入：0-5V RS232

7、較大耐壓：1MPa

8、控制響應(yīng)時間：<1S

真空系統(tǒng)

1、真空泵：Agilent DS202

2、壓力范圍：10^-3 Torr - 760 Torr

3、較大抽速：8.3 m³/h

4、真空計(jì)：TamaGawa 皮拉尼真空計(jì)

5、真空測量范圍：1atm-10^-1Pa

自動控制系統(tǒng)

1、配備控制計(jì)算機(jī)及控制軟件，內(nèi)置生長參數(shù)

2、實(shí)時顯示所有實(shí)驗(yàn)參數(shù)，

3、自動保存實(shí)驗(yàn)參數(shù)

設(shè)備總尺寸

1、1800（L）*700（W）*1500（H）mm

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