一般工作距離可調(diào),距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。
離子流的大小通過控制真空壓力實現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結(jié)晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產(chǎn)生的熱量越高;真空度越高,I 越小,濺射速度越慢,原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。
加速電壓為固定,也有可調(diào)的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。
一般工作距離可調(diào),距離越近,濺射速度越快,但熱損傷會增加。離子流的大小通過控制真空壓力實現(xiàn),真空度越低,I越大,濺射速度越快,原子結(jié)晶晶粒越粗,電子轟擊樣品(陽極)產(chǎn)生的熱量越高;真空度越高,I 越小,濺射速度越慢,原子結(jié)晶晶粒越細(xì)小,電子轟擊樣品產(chǎn)生的熱量小。加速電壓為固定,也有可調(diào)的,加速電壓越高,對樣品熱損傷越大。一般使用金屬靶材的正比區(qū)域。有些熱敏樣品,需要對樣品區(qū)進(jìn)行冷卻,水冷或者帕爾貼冷卻;也可以采用磁控裝置,像電磁透鏡一樣把電子偏離樣品。經(jīng)過這樣的改造,當(dāng)然會增加很高的成本。可以在石蠟表面濺射一層金屬,而沒有任何損傷!真空中的雜質(zhì)越多,鍍膜質(zhì)量越差。一般黃金比較穩(wěn)定,可以采用空氣作為等離子氣源,而其他很多靶材則需要惰性氣體為好。氣體原子序數(shù)越高,動量越大,濺射越快,但晶粒會較粗,連續(xù)成膜的膜層較厚。保持真空室的潔凈對高質(zhì)量的鍍膜有很大好處。不要讓機械真空泵長期保持極限真空,否則容易反油。
儀器多機尺寸:長610mmX竟420mmX言220mm(注:含腔體總高490mm)
工作腔室尺寸::金篇腔體:直徑260mmX高270mm(外尺寸)
直徑210mmX高270mm(內(nèi)尺寸)
靶材尺寸:室徑50mmX罩3mm(圖契材材質(zhì)不司星度有所不司)
靶材料:標(biāo)配一雜直徑50mmX03mm的金起(可渡射弱磁性金屬膜)
靶槍冷卻方式:水冷
真空系統(tǒng):抗沖擊渦輪分子泵,抽速為300L/s
前級機械泵:抽速為4L,帶防返油電磷閥及油污拉濾器
真空測量:采用復(fù)合真空計些測真空
極限真空度:5×10Pa(10分鐘可到5×10Pa)
電源:官流恒流電源:
翰入克壓:220W
輸出電壓:0-600r可話
輸出電流(沉積電流):0-1.6A可調(diào)
教樣臺:旋裝臺(直徑尺寸用戶可選,不能超過中150mm)
工作氣體:Ar箋管性氣體(警自備氣瓶及減壓閥)
氣路:誰射喜空度手動道整
沉積速寶:0-200nm
水冷:自循環(huán)冷卻水機
電源電壓:220V50Hz
啟動功室:3KW
保修:貳年
價格面議