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無掩膜數(shù)字光刻機（科研型)

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所在地區(qū)：

聯(lián)系人：周經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

無掩膜光刻機(科研型）型號DS-2000/14K1．技術(shù)特征采用DMD作為數(shù)字掩模，像素1024×768采用1倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約1mm×0.75mm采用創(chuàng)新技術(shù)——積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)均明

詳細(xì)介紹

無掩膜光刻機(科研型）

型號 DS-2000/14K

1．技術(shù)特征 采用DMD作為數(shù)字掩模，像素1024×768

采用1倍縮小投影光刻物鏡成像，一次曝光面積約1mm×0.75mm

采用創(chuàng)新技術(shù)——積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)均明。

采用進(jìn)口精密光柵、進(jìn)口電機、進(jìn)口導(dǎo)軌、進(jìn)口絲杠實現(xiàn)精確工件定位和曝光拼接，

可適應(yīng)100mm×100mm基片。

2．技術(shù)參數(shù)

光源：350W球形汞燈（曝光譜線： i線）；

照明均勻性：±2%； 物鏡倍率：1倍

曝光場面積：14mm×10mm 光刻分辨力：14μm

工件臺運動范圍：X：100mm、 Y：100mm；

工件臺運動定位精度：±1.5μm；

調(diào)焦臺運動靈敏度：1μm；

調(diào)焦臺運動行程：6mm 轉(zhuǎn)動臺行程：±6°以上

基片尺寸外徑: Ф15mm—Ф100mm，

厚度：0.1mm.5mm

3．外形尺寸：840mm（長）×450mm(寬) ×830mm（高）

無掩模光刻機系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)：曝光光學(xué)系統(tǒng)、光勻化技術(shù)、圖形發(fā)生器、投影物鏡、對焦系統(tǒng)、對準(zhǔn)系統(tǒng)、精密工件臺、步進(jìn)拼接、控制軟件等

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