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上海爾迪儀器科技有限公司


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等離子清洗機 V

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更新時間:2023-08-31 08:47:08瀏覽次數(shù):314次

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所在地區(qū):

聯(lián)系人:張經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

技術(shù)應(yīng)用鏈接:使用等離子的表面處理裝置

詳細介紹

技術(shù)應(yīng)用鏈接:

使用等離子的表面處理裝置。著重于"使用簡單"的臺式高性能型號,調(diào)取數(shù)據(jù)簡單,以電子材料為中心,可對應(yīng)多種用途。

特征
● 可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
● 搭載高精度適配器,高性能RF 電源。
● 可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。

用途
● 硅晶圓的灰化及蝕刻
● 基板表面污垢處理
● IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
● 半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
● 自然氧化膜·有機物去除
● 界面活性處理
● 表面污染物去除

未找到相應(yīng)參數(shù)組,請于后臺屬性模板中添加

型號

V1000

V1000X

V1000XS

等離子模式

DP/RIE

高頻電源

13.56MHz

輸出功率

Max1000W

Max1000 & 1500W

有效電極尺寸

W280×D280mm

W300×D300mm

W400×D375mm

電極

平行平板

2段電極(獨立)

平板(多目的)

反應(yīng)氣體

聚合控制器2系統(tǒng)(填充氣路另行安裝)

真空泵(標配)

約1000L/min

約1500L/min

1000 & 1500L/min

安全裝置

門檢測開關(guān)、聯(lián)鎖機構(gòu)、緊急停止開關(guān)、溫度過升防止器等

 


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