詳細(xì)摘要: 簡單介紹:主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中...
產(chǎn)品型號:所在地:更新時(shí)間:2023-06-30 在線留言印前設(shè)備 印刷機(jī)械 印后設(shè)備 裝訂設(shè)備 廣告設(shè)備 辦公設(shè)備 印刷機(jī)械配件 其它印刷相關(guān)器材 其它印刷設(shè)備