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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司


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日本DNK科研曝光機(jī)MA-4301M光刻機(jī)

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更新時(shí)間：2023-07-01 09:13:20瀏覽次數(shù)：376次

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所在地區(qū)：

聯(lián)系人：黃羅龍

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹： 主要特長(zhǎng)利用本公司開(kāi)創(chuàng)的高速圖像處理技術(shù), 實(shí)現(xiàn)了Wafer與掩膜的高精度對(duì)位。裝載機(jī)側(cè)和卸載機(jī)側(cè)*多可設(shè)置兩個(gè)籃具（選購(gòu)項(xiàng)）。備有冷卻機(jī)構(gòu)，可進(jìn)行基板臺(tái)與掩膜的溫度管理（選購(gòu)項(xiàng)）。搭載本公司開(kāi)創(chuàng)的鏡面光學(xué)系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實(shí)現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。搭載非接觸預(yù)對(duì)位系統(tǒng)（PREALIGNER）。從而實(shí)現(xiàn)了高精度進(jìn)給且保證基板不受任何損傷。搭載有自動(dòng)掩膜更換機(jī)。并可支持掩膜存放庫(kù)。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

光刻機(jī)介紹

曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 

光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規(guī)格

  MA-4301M
Wafer尺寸 材料 Si,Glass
尺寸 Φ6″ x t0.625 mm(6″ = Φ150 mm) +/- 0.2 mm
Φ8″ x t0.725 mm(8″ = Φ200 mm) +/- 0.2 mm
節(jié)拍時(shí)間 Proximity exposure：19 s/wafer
(One parallelism compensation per lot)
對(duì)位精度 自動(dòng)對(duì)位：+/- 1 μm
(Peak search)
間隙 1 to 200 μm Servo motor
Setup resolution：1 μm
曝光方式 Soft contact exposure
Hard contact exposure
Proximity exposure
尺寸?重量 本體尺寸：W 1800 x D 1650 x H 2015 mm
總重量(including lamp house)：1400 kg


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