蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 15用于材料領(lǐng)域,LS 15用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級(jí)的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對(duì)各種材料表面作分析，并且具有X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺(tái)為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。

一、蔡司掃描電子顯微鏡EVO MA 15/LS 15用途

掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。

二、掃描電子顯微鏡（蔡司）EVO MA 15/LS 15技術(shù)參數(shù)

1、分辨率：2.0nm@30KV(SE with Lab6 option)  3.0nm@30KV(SE and W)  4.5nm@30KV(VP with BSD)

2、加速電壓：0.2—30KV

3、放大倍數(shù)：5—1000000x

4、視野范圍：6mm

5、X-射線參數(shù)：8.5mm WD，35度接收角

6、壓力范圍：10—400Pa (LS15:10-3000Pa)

7、工作室：365mm(φ)×275mm(h)

8、5軸優(yōu)中心自動(dòng)樣品臺(tái)：X=125mm  Y=125mm  Z=50mm  T=0-90°R=360°

9、試樣高度：145mm，試樣直徑：250mm

10、系統(tǒng)控制：基于Windows XP 的SmartSEM

三、電子顯微鏡（蔡司）主要特點(diǎn)

1、能在可變壓力下操作

2、X射線和EBSD分析

3、快速抽真空

4、未來的保證，可升級(jí)在高壓和水蒸氣下成像和分析

5、高亮度LaB6資源選擇

6、光線套選擇

7、可移動(dòng)大平臺(tái)

四、掃描電子顯微鏡（蔡司）技術(shù)特點(diǎn)

1、通過網(wǎng)絡(luò)可遠(yuǎn)程控制

2、在z軸上可機(jī)動(dòng)化的移動(dòng)50毫米并且在X和y軸上可移動(dòng)125毫米

3、樣本高度增加到145毫米

4、改進(jìn)了低真空圖像

5、X-射線分析技術(shù)