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二氧化鈦添加劑高剪切分散機(jī)

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  • 型號(hào) XMD
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 蘇州市

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更新時(shí)間:2019-03-26 16:29:36瀏覽次數(shù):1335

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產(chǎn)品簡介

二氧化鈦添加劑高剪切分散機(jī)適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的*水平。

詳細(xì)介紹

二氧化鈦添加劑高剪切分散機(jī),二氧化鈦高速分散機(jī),二氧化鈦實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī),醫(yī)用二氧化鈦藥劑均質(zhì)機(jī)

一、二氧化鈦的簡介

二氧化鈦,白色固體或粉末狀的兩性氧化物,分子量:79.9,是一種白色無機(jī)顏料,具有無毒、較佳的不透明性、較佳白度和光亮度,被認(rèn)為是性能較好的一種白色顏料。鈦白的粘附力強(qiáng),不易起化學(xué)變化。廣泛應(yīng)用于涂料、塑料、造紙、印刷油墨、化纖、橡膠、化妝品等工業(yè)。它的熔點(diǎn)很高,也被用來制造耐火玻璃,釉料,琺瑯、陶土、耐高溫的實(shí)驗(yàn)器皿等。

同時(shí),二氧化鈦有較好的紫外線掩蔽作用,常作為防曬劑摻入紡織纖維中,超細(xì)的二氧化鈦粉末也被加入進(jìn)防曬霜膏中制成防曬化妝品。

二氧化鈦可由金紅石用酸分解提取,或由四氯化鈦分解得到。二氧化鈦性質(zhì)穩(wěn)定,大量用作油漆中的白色顏料,它具有良好的遮蓋能力,和鉛白相似,但不像鉛白會(huì)變黑;它又具有鋅白一樣的持久性。

二、二氧化鈦的研磨

生產(chǎn)出來的二氧化鈦有時(shí)品質(zhì)不高,粒徑為微米級(jí),在后期應(yīng)用過程中需要進(jìn)一步的研磨細(xì)化粒徑,結(jié)合多家客戶案例,*XMD2000系列高剪切膠體磨進(jìn)行研磨細(xì)化處理,一般循環(huán)處理,粒徑可至納米級(jí)。XMD2000系列高剪切膠體磨,有著18000rpm的轉(zhuǎn)速,三層錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的高精密磨頭,研磨細(xì)化效率高。

三、二氧化鈦添加劑高剪切分散機(jī)介紹:

1、SID膠體磨具有設(shè)計(jì)緊湊、實(shí)用方便,外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料理想的加工設(shè)備。

2、SID高剪切膠體磨是對流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)、球磨機(jī)、三輥機(jī)、剪切機(jī)、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后,粒度達(dá)2~50微米,均勻度達(dá)90%以上,是超微粒加工的理想設(shè)備。

3、該機(jī)適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的*水平。

四、影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1、膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

2、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

3、物料在研磨腔體的停留時(shí)間,研磨粉碎時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小,效果越好)

4、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

六、超高速膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較:

1、轉(zhuǎn)速和剪切速率:SGN納米膠體磨,可選擇德國機(jī)械密封,轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨,可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn),大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知,這是乳粉碎研磨的重要因素,相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

2、膠體磨頭和間距:納米膠體磨,可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能,如三級(jí)乳化模塊,超高速模塊,XM膠體模塊,GMO膠體模塊,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào),可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨,只有一種模塊頭,粒徑細(xì)度有限,100微米以下較困難,重復(fù)性差

 3、機(jī)械密封:納米膠體磨,雙機(jī)械密封,易于清洗,將泄漏降至低,可24小時(shí)不停運(yùn)轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨,單機(jī)械密封或軸封,泄漏故障率高,產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá),造成馬達(dá)燒毀

七、XMDS2000系列二氧化鈦納米分散膠體磨型號(hào)表

 

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

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