詳細(xì)介紹
激光成像設(shè)備Tripod系列LDI是一款高性能、型激光直接成像系統(tǒng),采用大功率曝光光源設(shè)計(jì)可適用所有UV、干膜、濕膜等感光材料直接成像,并結(jié)合高精度的成像和定位系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)30μm/30μm的解析,其可兼容外層線路、防焊等制程需求,為不同的PCB、柔性板提供了的解決方案。
激光成像設(shè)備Tripod系列LDI項(xiàng)目參數(shù)
型號 | Tripod100 |
適用制程 | 內(nèi)層/外層/防焊 |
曝光方式 | 24"*26" |
曝光方式 | DMD+LD |
基板厚度 | 0.05mm-5mm |
最小線寬線距 | 35μm/35μm |
線寬均勻性 | ±10% |
對位精度 | ±12μm |
層間對位精度 | 24μm |
光源壽命 | 8000hrs |
對位視場范圍 | 12mm*9mm |
支持格式 | Gerber274D/X;ODB++ |
波長 | 405nm |
生產(chǎn)效率(18"*24") | 10mj/cm2 155面/hr |
60mj/cm2 100面/hr | |
110mj/cm2(濕膜) 70面/hr | |
200mj/cm2(防焊) 45面/hr | |
機(jī)臺尺寸 | 長:280cm寬:寬:175cm 高:170cm |
機(jī)臺重量 | 2800kg |
工作環(huán)境 | 電源:380V±5%,50/60Hz,5KW |
設(shè)定溫度:18-24℃,變化范圍±1℃ | |
設(shè)定溫度:40-60℃,變化范圍±5℃ | |
潔凈度:1000級 |