高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中，然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無(wú)法滿足分散效果的要求，傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低，一般為3000rpm。而采用SGN管線式研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，將膠體磨和分散機(jī)一體化，先研磨后分散，分散粒徑更小，粒徑分布更均勻。

一、產(chǎn)品名稱：高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)

 

二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用

 

氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點(diǎn)。高純氧化鋁氧粉，又稱三氧化二鋁，分子量102，是一種白色無(wú)定形粉狀物，俗稱礬土。

 

高純氧化鋁的應(yīng)用：

 

一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于*陶瓷，4N主要應(yīng)用于熒光粉，5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級(jí)陶瓷等。

 

：應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對(duì)純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。

 

中端：應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈，藍(lán)寶石襯底，對(duì)純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格，需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。

 

低端：集成電路基板、消費(fèi)電子，紫外固化涂料等方面的應(yīng)用，需要使用4N級(jí)別左右的高純超細(xì)氧化鋁，整體要求相對(duì)較低。

 

（價(jià)格電議，，公司有樣機(jī)可實(shí)驗(yàn)?。?/p>

 

 

三、高純氧化鋁粉的應(yīng)用工藝

 

主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中，然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無(wú)法滿足分散效果的要求，傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低，一般為3000rpm。而采用SGN管線式研磨分散機(jī)，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，將膠體磨和分散機(jī)一體化，先研磨后分散，分散粒徑更小，粒徑分布更均勻。

 

四、SGN化工研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)

 

1、上海SGN研磨式分散機(jī)可以很好的解決這一問(wèn)題，“膠體磨+分散機(jī)”的*結(jié)構(gòu)，一級(jí)研磨模塊可以將團(tuán)聚體研磨打開(kāi)，第二級(jí)分散模塊再瞬間對(duì)物料進(jìn)行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。

  

2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm，難以分散。而SGN研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm，剪切速率高，可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。  

 

3、SGN研磨分散機(jī)采用管線式分體式結(jié)構(gòu)，物料從進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備工作腔中，進(jìn)行處理，然后再?gòu)某隹诖虺觯锪?00%得的剪切細(xì)化分散，產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn)，滿足大工業(yè)化生要求。

 

五、GMD2000系列高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)選型表

 

型號(hào)	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
GMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
GMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
GMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
GMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
GMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125

 

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