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全手動光罩對準曝光機

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品簡介： 全手動操作，每一個動作可單獨操作，適合實驗室研究使用或量產(chǎn)前制程開發(fā)使用。

詳細介紹

全手動光罩對準曝光機

適合研究單位使用
產(chǎn)品簡介：

全手動操作，每一個動作可單獨操作，適合實驗室研究使用或量產(chǎn)前制程開發(fā)使用。

曝光燈源

紫外光源機型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″，圓或方， 波長: NUV(含365nm， 405nm，435nm) 。

光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 均勻度: +-3~5%，

高壓汞燈泡及電源供應(yīng)器。

影像系統(tǒng)

采用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準總倍率50X-300X， CCD攝影機影像系統(tǒng)，

19吋 LCD螢?zāi)?打光有LED同軸光或環(huán)形光， 觀測的兩點間距4cm-20cm，

可加裝轉(zhuǎn)折鏡到更小間距， 可加裝鏡頭掃描臺以快速移動鏡頭， 可選配背面對準影像系統(tǒng)。

曝光臺

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″，5″， 6″， 7″， 9″ 。

晶圓真空吸盤 : 2″， 4″， 5″， 6″，8″， 圓或方， 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有真空接觸式與近接式，可調(diào)整真空吸附力大小 X，Y軸調(diào)整10mm，調(diào)整靈敏度1um， Z軸可調(diào)整5mm，

千分表解析度1um， 上光罩以手開啟以取放基板。

操作系統(tǒng)

全手動操作系統(tǒng)，每一動作均需手動操作。

操作流程 : 置基板，手動關(guān)下光罩吸盤，鏡頭移入做對準動作，chuck上移至曝光位置，鏡頭移出燈源移入曝光(計時)， 燈源移出，光罩吸盤開啟，取出基板， 曝光計時器時間設(shè)定:0.1-999秒。

機座

具四個防震氣墊，具調(diào)整腳及移動輪， 不銹鋼支架及盤面，鋁合金桌面及肋板，CDA之調(diào)整真空之顯示，電源輸出入等。

性能

采真空接觸曝光圖形解析可達1um以內(nèi)(正光阻厚1um)， 采近接式曝光依晶圓與光罩間距設(shè)定約在3~5um。

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