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首先是加熱烘烤除氣。它可以除去結(jié)合能較低的吸附氣體，使真空系統(tǒng)能在規(guī)定抽氣時間內(nèi)達到較低的壓力。這種方法是真空系統(tǒng)材料除氣的常用方法之一，形式原理也很好理解。簡單說就是在抽氣循環(huán)的某一階段將真空系統(tǒng)升溫，隨后又使之降到環(huán)境溫度，這個過程中使吸附氣體從被加熱的表面上解吸。烘烤加熱后，材料的解吸速率要遠遠大于在環(huán)境溫度下的解吸速率，對于解吸的氣體，再通過真空泵從系統(tǒng)中排除。
其次就是電子束轟擊除氣。它通過低壓直流電子轟擊或者高壓脈沖電子轟擊，將電子打到需除氣的材料表面，并進入材料表面較深處。這個過程中，電子束將大部分能量以熱能的形式傳給固體（可以將固體表面加熱到500℃，溫度可以有電氣控制系統(tǒng)控制），使吸附在表面的原子從材料表面釋放出來。同時電子束轟擊將表面加熱后，還會促使內(nèi)部原子向表面擴散并從表面解吸。與加熱烘烤除氣不同，電子束轟擊除氣對材料表面的氧化膜破壞非常迅速，因此常用于純金屬陰極真空器件的除氣，可以除去表面氧化膜與微突起。
第三離子轟擊除氣。離子轟擊除氣利用離子源或者空間輝光放電而產(chǎn)生的氣體離子來轟擊工件材料表面，使吸附在材料表面層的氣體、氧化物等發(fā)生濺射作用而分解解吸出來，轟擊過程也會加熱工件表面。為了使濺射作用更為強烈，一般會使用惰性氣體來進行離化來獲得轟擊離子。但離子轟擊除氣一般不能用于電真空器件的除氣，因為離子轟擊過程會對器件陰極產(chǎn)生較大危害，破壞涂層產(chǎn)生離子斑，對吸附有氧或鹵素的電極也會產(chǎn)生類似破環(huán)。
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