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多場(chǎng)光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)哪家好

2025-03-26

產(chǎn)地:
北京/北京市
地:
北京北京市
有效期還剩91

產(chǎn)品詳情

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)

一體化的低溫共聚焦測(cè)試解決方案,包含共聚焦顯微成像、拉曼光譜和磁光克爾功能模塊

 

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)



光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng) 組件

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)


系統(tǒng)組件 – 01. 可堆疊光學(xué)功能模塊

>> 熒光/拉曼光譜模塊

集成化的熒光/拉曼光譜測(cè)試光路,可直接安裝在共聚焦樣品桿上

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)

產(chǎn)品亮點(diǎn)

– 基于光纖的共聚焦掃描測(cè)試,可?光纖芯徑: 4, 10, 25, 50, 100, 200 μm;
– 光學(xué)元件可更換以適用于不同波長(zhǎng)的應(yīng)用;
– Kohler 光照方式實(shí)現(xiàn)大面積/均勻的照明范圍 ΦFOV~30 μm;
– 集成了CMOS相機(jī),具備Type-C接口;
– 1” 或 0.5” 光學(xué)元件可?動(dòng)旋轉(zhuǎn)安裝


光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)



>> 磁光克爾模塊

集成化的磁光克爾(MOKE)測(cè)試光路,可直接安裝在共聚焦樣品桿上

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)

產(chǎn)品亮點(diǎn)

– ?套測(cè)試裝置可實(shí)現(xiàn)兩種表征方式:圖像襯度與PEM鎖相;
– PEM+鎖相實(shí)現(xiàn)超?精度單點(diǎn)測(cè)量;
– 寬場(chǎng)成像模式,調(diào)制模式提高了磁滯回線測(cè)量靈敏度
– 采用電機(jī)精確控制旋轉(zhuǎn)角度,精確對(duì)準(zhǔn)偏振片與PEM


光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)


>> 磁光克爾 – 光彈調(diào)制器PEM

緊湊的光彈調(diào)制器,可安裝至共聚焦模塊上使用,也可作為獨(dú)立器件



系統(tǒng)組件 – 02. 共聚焦樣品桿



光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)


系統(tǒng)組件 – 03. 低溫光學(xué)物鏡


光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)


系統(tǒng)組件 – 04. 樣品安裝

靈活方便的樣品安裝方式,實(shí)現(xiàn)光電聯(lián)合測(cè)試

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)


系統(tǒng)組件 – 05. 納米運(yùn)動(dòng)單元

光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)


光學(xué)共聚焦測(cè)試系統(tǒng)




   多場(chǎng)低溫科技(北京)有限公司于2017正式運(yùn)營(yíng),2021年團(tuán)隊(duì)整體遷入懷柔科學(xué)城產(chǎn)業(yè)園;并且公司在2020年獲得高新技術(shù)企業(yè)資質(zhì),2023年獲得北京市專精特新企業(yè)認(rèn)證。

   多場(chǎng)科技積極推動(dòng)技術(shù)延伸,迅速發(fā)展出水平的全環(huán)境超精密壓電運(yùn)動(dòng)控制以及綜合物性表征手段,形成了模塊化的全品類超精密運(yùn)動(dòng)控制以及涵蓋力熱聲光電全方面的物性表征系列產(chǎn)品,并推出了融合多場(chǎng)先進(jìn)技術(shù)的綜合物性表征平臺(tái)等整體化解決方案。公司產(chǎn)品已服務(wù)于國(guó)內(nèi)外百余所高校及研究機(jī)構(gòu)。



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在線詢價(jià)

 

多場(chǎng)低溫科技(北京)有限

型:
其他
聯(lián)系人:
張經(jīng)理
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真:

聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)說(shuō)明是在包裝印刷網(wǎng)上看到的,謝謝

商家概況

主營(yíng)產(chǎn)品:
壓電位移臺(tái),物性表征樣品桿,低溫物性測(cè)量平臺(tái)
公司性質(zhì):
其他

該商家其它產(chǎn)品

其它商家同類產(chǎn)品


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